Substrat Céramique AlN

Le substrat en céramique AlN a une excellente conductivité thermique, une faible constante diélectrique et une faible perte diélectrique, et des performances d'isolation fiables ; en outre, le substrat AIN présente également d'excellentes propriétés mécaniques, une résistance non toxique et à haute température et une résistance à la corrosion chimique. Le substrat céramique AIN (nitrure d'aluminium) a un coefficient de dilatation thermique similaire à celui du silicium. En tant que nouveau matériau céramique, le nitrure d'aluminium attire de plus en plus l'attention des ingénieurs et des chercheurs. La plaque en céramique AlN produite par notre société est largement utilisée dans les appareils de communication, les LED haute luminosité, les appareils électroniques de puissance et d'autres industries. C'est un matériau céramique électronique avec d'excellentes performances. Voici les caractéristiques de notre plaque AlN :

(1) Conductivité thermique élevée, 5 à 10 fois supérieure à celle des céramiques à base d'oxyde d'aluminium, équivalente à l'oxyde de béryllium hautement toxique (BeO) ;

(2) Le coefficient de dilatation thermique (4,3 x 10^-6/℃) correspond au matériau de silicium semi-conducteur (3,5-4,0 x 10^-6/℃);

(3) Bonnes propriétés mécaniques, résistance à la flexion plus élevée que la céramique BeO et proche de l'alumine ;

(4) excellentes performances électriques, résistance d'isolation extrêmement élevée et faibles pertes diélectriques;

(5) La compatibilité des matériaux de circuit est bonne, un câblage multicouche peut être effectué et une haute densité et une miniaturisation du boîtier peuvent être réalisées ;

(6) Non toxique et bénéfique pour la protection de l'environnement.

Applications typiques

Propriétés matérielles (AlN)

Le substrat en feuille d'AlN produit par UNIPREC Ceramic Technology présente d'excellentes propriétés thermiques, mécaniques et électriques, une conductivité thermique élevée, une résistance élevée et d'autres excellentes caractéristiques. Avec le développement rapide des équipements et dispositifs microélectroniques, les substrats de nitrure d'aluminium AIN ont été largement utilisés. N'importe quelle enquête ou contact serait fortement bien accueilli.

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